陶瓷基片爐具有高穩(wěn)定性、高人性化、低維護的特點,采用非接觸式高溫測量、真空系統(tǒng)過濾保護、獨特尾氣處理設(shè)計。主要用于氮化硅/氮化鋁流延基片等先進材料進行真空,脫氣、加壓致密化等,廣泛應(yīng)用于航天航空、電子電器半導(dǎo)體等領(lǐng)域。
陶瓷基片爐具有高穩(wěn)定性、高人性化、低維護的特點,采用非接觸式高溫測量、真空系統(tǒng)過濾保護、獨特尾氣處理設(shè)計。主要用于氮化硅/氮化鋁流延基片等先進材料進行真空,脫氣、加壓致密化等,廣泛應(yīng)用于航天航空、電子電器半導(dǎo)體等領(lǐng)域。